Сведения о календарной загрузке научного оборудования за 2024 год
|
№
|
Наименование единицы оборудования
(количество)
|
Загрузка оборудования, ч
|
||
|---|---|---|---|---|
|
в интересах базовой организации
|
в интересах третьих лиц
|
плановая
|
||
|
1
|
Автоэмиссионный растровый электронный микроскоп с блоком нанолитографии Raith 150 TWO (Raith, Германия) (1 ед.)
|
480
|
552
|
1104
|
|
2
|
Установка контактной литографии микросхем Suss MJB4 (SUSS MicroTec) (1 ед.)
|
140
|
524
|
1100
|
|
3
|
Система безмасковой лазерной литографии DWL 66FS (Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH) (1 ед.)
|
600
|
500
|
1100
|
|
4
|
Комбинированная система нанесения и задубливания резиста Sawatec SM180 НР150 (Sawatec, Швейцария) (1 ед.)
|
660
|
308
|
1104
|
|
5
|
Установка плазмохимического реактивно-ионного травления SPTS LPX ICP (SPP Process Technology Systems) (1 ед.)
|
180
|
528
|
1080
|
|
6
|
Установка для плазмохимического осаждения из газовой фазы LPX PECVD (SPP Process Technology Systems) (1 ед.)
|
180
|
450
|
1080
|
|
7
|
Установка для термического напыления РVD-75 (Kurt J. Lesker Company) (1 ед.)
|
610
|
415
|
1050
|
|
8
|
Системы электро-лучевого напыления тонких пленок PVD 250 (Kurt J. Lesker Company) (1 ед.)
|
540
|
528
|
1104
|
|
9
|
Установка быстрого термического отжига Modular RTP600S (Modular Process Technology Corp.) (1 ед.)
|
660
|
291
|
1095
|
|
10
|
Комплекс измерений S-, X- параметров PNA-X N 5245A в полосе от 0,01 до 50 ГГц (Agilent Technologies) (1 ед.)
|
780
|
216
|
1060
|
|
11
|
Измерительный комплекс полупроводниковых структур B1500A (Agilent Technologies) (1 ед.)
|
680
|
270
|
1060
|
|
12
|
Установка для исследования эффекта Холла HMS-5000 (Ecopia) (1 ед.)
|
570
|
420
|
1080
|
|
13
|
Спектроскопический эллипсометр PHE-102 (Angstrom Advanced Inc.) (1 ед.)
|
600
|
370
|
1060
|
|
14
|
Спектрометрический комплекс на основе монохроматора МДР-41 (ЛОМО) (1 ед.)
|
710
|
300
|
1080
|
|
15
|
Инфракрасный Фурье спектрометр FTIR-8400S (Shimadzu) (1 ед.)
|
670
|
300
|
1080
|
|
16
|
Рентгеновский дифрактометр Ultima IV (Rigaku) (1 ед.)
|
1000
|
360
|
1400
|
|
17
|
Установка молекулярно-лучевой эпитаксии GEN-930 (Veeco) (1 ед.)
|
420
|
224
|
952
|
|
18
|
Установка эпитаксии из газовой фазы Epic CVD (SMI) (1 ед.)
|
450
|
408
|
1080
|
|
19
|
Спектроскопический эллипсометр SE850 (SENTCH) (1 ед.)
|
600
|
370
|
1060
|
|
20
|
Система измерения удельного поверхностного сопротивления напылённых слоев RMS-EL-Z (Jandel Engineering) (1 ед.)
|
750
|
230
|
1060
|
|
21
|
Установка плазменного травления, плазменной очистки и активации поверхности NANOUHP (Diener Electronic GmbH) (1 ед.)
|
430
|
596
|
1060
|
|
22
|
Система измерения эффекта Холла HMS-3000 (Ecopia) (1 ед.)
|
570
|
420
|
1080
|
|
23
|
Потенциостат-гальваностат P-30S (Elins) (1 ед.)
|
440
|
544
|
1080
|
|
24
|
Аппарат для нанесения гальванических покрытий PGG 10/1,5 (Heimerle) (1 ед.)
|
440
|
544
|
1080
|
|
25
|
Сверхвысоковакуумная система анализа поверхности Multiprobe MXPS (Omicron) с источником осаждения нанокластеров Nanogen-50 и квадрупольным масс-фильтром MesoQ (Mantis Deposition Ltd., Великобритания) (1 ед.)
|
675
|
225
|
1050
|
|
26
|
Сканирующий зондовый микроскоп «СОЛВЕР НЕКСТ» (НТ-МДТ) (1 ед.)
|
630
|
381
|
1080
|
|
27
|
Растровый электронный микроскоп с приставкой прецизионного ионного травления (1 ед.)
|
480
|
360
|
882
|
|
28
|
Сканирующий зондовый микроскоп Solver Open (1 ед.)
|
630
|
381
|
1080
|
|
29
|
Спектрофотометр Shimadzu UV-2600 (1 ед.)
|
540
|
430
|
1060
|
|
30
|
Установка реактивного ионного травления Арех SLR (1 ед.)
|
510
|
60
|
1080
|
|
31
|
Установка электронной литографии сверхвысокого разрешения CABL-9500C (1 ед.)
|
360
|
468
|
1080
|